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半導體酸性廢水和晶片研磨廢水以及處理的流程和工藝
時間:2023-03-05 13:54:22    來源:http://zaralook.com     作者:天澤環(huán)保

晶圓是半導體和芯片的基本材料,利用微生物在合適的條件下進行生物代謝以降解餅干生產(chǎn)廢水中的有機物,使其穩(wěn)定、無害化的污水處理工藝,可根據(jù)需氧情況分為厭氧處理與好氧處理。 因此晶圓的生產(chǎn)會直接影響到半導體和芯片的生產(chǎn)。

寶山污水處理工程
寶山污水處理工程

而在實際生產(chǎn)晶圓過程中不僅制造難度高和流程復雜,而且生產(chǎn)過程伴隨著大量的工業(yè)廢水產(chǎn)生。那么,晶圓制造工廠是如何解決工業(yè)廢水問題的?

晶圓廢水

晶圓制造過程中會有酸堿廢水、含氨廢水、含氟廢水、研磨廢水、含銅廢水、有機廢水等工業(yè)廢水,不同的生產(chǎn)工藝從而產(chǎn)生了不同類型的工業(yè)廢水。而且這些廢水主要涉及的污染物也不同,采用的廢水處理工藝也不同。因此不能采用統(tǒng)一采用相同的污水處理站進行處理,需要按照不同的廢水類型進行分質(zhì)分流處理。

晶圓廢水處理工藝

根據(jù)工業(yè)廢水的特點采用相對應的處理方法,研磨廢水和含銅廢水都可以采用混凝沉淀法進行處理,分別去除廢水中的銅離子和SS。

混凝沉淀法

在混凝沉淀池中加入PAC、PAM,并進行攪拌,使PAC、PAM迅速均勻地擴散到全部水中以創(chuàng)造良好聚合條件,并借顆粒的布朗運動和紊動水流進行凝聚,形成細小的礬花。由于互相碰撞而聚集或聚合、搭接而形成較大的顆?;蛐鯛钗?,從而使污染物更易于自然下沉而被除去。





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